Thin film lithium niobate (TFLN) enables a high-performance integration platform thanks to its superior electro-optic properties and broad transparency range. In this contribution, we discuss preliminary results toward the exploitation of TFLN in the 1064nm window, further enhancing its versatility for telecommunications and sensing applications.

Lithium Niobate on Insulator Technology for applications in the 1064 nm Window

Contestabile, G.;De Marinis, L.;Kincaid, P. S.;Andriolli, N.
2024-01-01

Abstract

Thin film lithium niobate (TFLN) enables a high-performance integration platform thanks to its superior electro-optic properties and broad transparency range. In this contribution, we discuss preliminary results toward the exploitation of TFLN in the 1064nm window, further enhancing its versatility for telecommunications and sensing applications.
File in questo prodotto:
File Dimensione Formato  
Lithium_Niobate_on_Insulator_Technology_for_applications_in_the_1064_nm_Window.pdf

solo utenti autorizzati

Tipologia: Documento in Pre-print/Submitted manuscript
Licenza: Copyright dell'editore
Dimensione 580.83 kB
Formato Adobe PDF
580.83 kB Adobe PDF   Visualizza/Apri   Richiedi una copia

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11382/582033
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 2
social impact